平板显示屏玻璃湿化学加工低风速吹扫残液的装置及工艺

成果编号：22030

价格：面议

完成单位：盐城工学院

单位类别：其他高校

完成时间：2015年

成熟程度：批量生产阶段

服务产业领域：能源环保、新材料

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发布人：cjh1962 离线

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本发明公开了平板显示屏玻璃湿化学加工低风速吹扫残液的装置，属于平板玻璃和半导体硅片表面湿化学加工技术领域，该装置在工件的上、下均有设置，其包括端口、入风口、风道和出风口;端口的一端与空气压缩泵相连，在端口的另一端设有入风口，入风口与风道的一端相连，风道的另一端设有出风口;出风口、风道和入风口相连通。本发明还公开了该装置的应用工艺。本发明能很好地将玻璃片等工件表面的液体去除，可提高蚀刻液等反应溶液的使用寿命;能减少高纯水的消耗，减少清洗污水的产生;出风温度与环境温度之差不大于5 0C，即去除了玻璃片表面的化学液体，又不至于由于风温明显升高，干扰表面的化学反应，造成工艺控制的困难，影响制品的质量。

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成果介绍

科技计划：

成果形式：新技术、新装备、新品种

合作方式：技术转让、技术开发、技术咨询、技术服务

参与活动：驻苏高校院所苏北五市产学研合作对接活动第七届中国江苏产学研合作大会

专利情况：正在申请 ,其中:发明专利 0 项
已授权专利,其中:发明专利 2 项
专利号:
ZL201610454767.0

成果简介

成果概况

创新要点

提供平板显示屏玻璃和半导体硅片湿化学加工低风速吹扫残液的装置，既能将被加工制品表面的化学残液吹净，减少化学残液对下道工序的干扰，减少清洗用高纯水的消耗，又不会由于吹扫而干扰工件表面的化学加工，影响产品的加工质量。

主要技术指标

在AG液蚀刻与氢氟酸蚀刻、半导体太阳能电池硅片制绒或湿法刻蚀加工工序设置低风速吹扫操作，在氢氟酸蚀刻后设置低风速吹扫器，云状隐纹缺陷被消除，AG液蚀刻液与氢氟酸蚀刻液的使用周期延长一倍，消耗下降30[[%]]，高氟废水量降低40[[%]]，废水含氟浓度由1000mg/L下降为300mg/L.

其他说明

完成人信息

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