基于电化学腐蚀的纳流控芯片制备工艺

成果编号：11280

价格：面议

完成单位：省产研院生物材料与医疗器械研究所

单位类别：985系统院所、其他院所

完成时间：2013年

成熟程度：研制阶段

服务产业领域：装备制造、生物技术与医药

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发布人：陆祖宏离线

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采用镀膜-雕刻-电化学腐蚀的方法，实现纳米尺度流道的加工，大幅度降低了纳米流道的加工难度和对制备平台、场地等的要求。

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成果介绍

科技计划：

成果形式：新工艺

合作方式：技术开发

参与活动：

专利情况：正在申请 ,其中:发明专利 0 项
已授权专利,其中:发明专利 1 项

成果简介

成果概况

采用镀膜-雕刻-电化学腐蚀的方法，实现纳米尺度流道的加工，大幅度降低了纳米流道的加工难度和对制备平台、场地等的要求。

创新要点

创新地提出了基于镀膜-雕刻-电化学腐蚀的纳米尺度流道的加工方法，极大地降低了纳米流道的加工难度。

主要技术指标

可制备纳流控芯片流道厚度：10-5000nm，平整度：偏差小于10%

其他说明

完成人信息

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