先进磁控溅射真空镀膜技术及专用设备

成果编号：02464

价格：面议

完成单位：浙江大学

单位类别：985系统院所、211系统院所

完成时间：2013年

成熟程度：小批量生产阶段

服务产业领域：电子信息

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发布人：金浩离线

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该项目研发了磁控溅射真空镀膜技术及专用设备，先后获得国家及部省级科技进步奖13项，已获发明专利13项，并获得了某通讯公司终端客户的广泛赞誉

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成果介绍

科技计划：

成果形式：新装备

合作方式：技术服务

参与活动：

专利情况：正在申请 ,其中:发明专利 13 项
已授权专利,其中:发明专利 13 项

成果简介

成果概况

该项目研发了磁控溅射真空镀膜技术及专用设备，先后获得国家及部省级科技进步奖13项，已获发明专利13项，并获得了某通讯公司终端客户的广泛赞誉

创新要点

节能、环保，并大幅提高产品性能

主要技术指标

以“先进磁控溅射”为核心，可为客户量身定制“磁控溅射连续式自动生产线”、“生产型磁控溅射旋转靶单机”、“科研型多靶多功能磁控溅射仪”等专属产品

其他说明

已在多家大型电子陶瓷企业成功实现产业化应用

完成人信息

姓名：对接成功后可查看

所在部门：对接成功后可查看

职务：对接成功后可查看

职称：对接成功后可查看

手机：对接成功后可查看

E-mail：对接成功后可查看

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