成果介绍
科技计划：
成果形式：
合作方式：技术开发
参与活动：
专利情况：
未申请专利
成果简介
成果概况
综合利用磁控溅射、电子束溅射以及紫外曝光、离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、聚焦离子束刻蚀等先进的微加工技术制作各种传感器、MENS器件、纳米材料等，不仅具有新产品开发、研制能力，同时具有中试和小批量生产能力。 可以实现多层金属、绝缘体以及氧化物的纳米和亚微米量级的薄膜制备，紫外曝光最小线宽可达2-3微米，多层对准的套刻技术。
创新要点
主要技术指标
其他说明
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