碳化硅陶瓷作为结构部件，特别是低温500度以内的高精度部件，在半导体领域的应用得到了很好的国产化替代。但在高温设备中，由于金属杂质的析出，对材料的纯度提出了非常高的要求。目前碳化硅陶瓷的纯度提高，主要包括三个方面：原料粉体纯度、工艺过程纯度控制、表面高纯化处理等几个方面，本公司具有完善的材料合成、成型和烧结等关键装备，需要合作，共同解决关键的材料和关键技术问题。
（1）原料粉体的技术指标：纯度高于99.99%。
（2）陶瓷基材技术指标：纯度高于99.999%。
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周琦
2021-09-28
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技术介绍
| 需求项目简述 |
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碳化硅陶瓷作为结构部件，特别是低温500度以内的高精度部件，在半导体领域的应用得到了很好的国产化替代。但在高温设备中，由于金属杂质的析出，对材料的纯度提出了非常高的要求。目前碳化硅陶瓷的纯度提高，主要包括三个方面：原料粉体纯度、工艺过程纯度控制、表面高纯化处理等几个方面，本公司具有完善的材料合成、成型和烧结等关键装备，需要合作，共同解决关键的材料和关键技术问题。
（1）原料粉体的技术指标：纯度高于99.99%。
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