技术方案：采用离子掺杂的方法调控靶材蒸镀后的薄膜性能，根据分析总结出的理论规律指导调控靶材性能，建立高纯Ti3O5镀膜靶材性能调控体系。
主要技术指标：
（1）Ti3O5镀膜靶材纯度达99.99%（4N级）及以上；
（2）折射率不低于2.1（@550nm，λ/4）；
（3）透光范围400~12000 nm；
（4）蒸发温度不高于1850 ℃。
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技术介绍
| 需求项目简述 |
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技术方案：采用离子掺杂的方法调控靶材蒸镀后的薄膜性能，根据分析总结出的理论规律指导调控靶材性能，建立高纯Ti3O5镀膜靶材性能调控体系。
主要技术指标：
（1）Ti3O5镀膜靶材纯度达99.99%（4N级）及以上；
（2）折射率不低于2.1（@550nm，λ/4）；
（3）透光范围400~12000 nm；
（4）蒸发温度不高于1850 ℃。
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企业信息
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负责人信息
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