需求项目简述 |
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技术背景:目前公司主要通过磁控溅射工艺来制备氧化锆靶材,但在磁控溅射过程中,经常可以发现氧化锆靶材表面严重打火、甚至大面积烧蚀形成坑洞,这种现象是电弧放电引起的,而电弧放电尤其会在具有不同导电性的区域发生,这是由于氧化锆靶材中存在不同的金相导致的,氧化锆存在三种金相且易发生相变。
需要解决技术问题:初步决定以导电性为切入点,以低的电阻率及高均匀性为目标,来制备一种稳定的导电旋转氧化锆靶材。但是针对以上方案仍存在以下问题:1、材料内部本身纯度(即均匀性)的控制问题;2、生产时杂质以及气孔对导电性的影响问题。
技术指标:1.靶材纯度不低于99.9%;2.致密性提升(厚度均匀、质量可靠、晶粒尺寸一致);3.导电性能比原来的产品提升10%以上。
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