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采用多级磁场约束的弧源来提高弧斑放电设计

需求所属领域: 新材料
需求所处阶段:研制阶段
需求缘由:新产品开发
意向合作方式: 技术开发
意向合作院校:
拟投入资金额: 50万元
参加活动: 第二届江苏产学研合作对接大会
发布人:迈捷克纳米科技(苏州)有限公司 离线
需解决问题: 用具有细长型靶材底柱紧凑结构的离子镀枪装置配合双层水冷传输法兰套,采用具有一定锥度的锥台形靶材,通过细长型靶材底柱周围靶座背面的内轴向磁场(Ⅰ级轴向磁场)发生装置与传输法兰套上的外轴向磁场(Ⅱ、Ⅲ级轴向磁场)发生装置的配合,形成与锥台形靶材锥面相交的约束轴向磁场及传输空间聚焦导引轴向磁场兼容可调的多级轴向复合磁场结构。既可以改善弧斑放电,控制弧斑运动,减少颗粒发射,又可以改善传输空间的磁场分布,提高等离子体的传输效率和密度等镀膜关键参数的双重效果。 达到的指标:最终可提高公司市场占有率
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需求详情

技术介绍
需求项目简述
需解决问题: 用具有细长型靶材底柱紧凑结构的离子镀枪装置配合双层水冷传输法兰套,采用具有一定锥度的锥台形靶材,通过细长型靶材底柱周围靶座背面的内轴向磁场(Ⅰ级轴向磁场)发生装置与传输法兰套上的外轴向磁场(Ⅱ、Ⅲ级轴向磁场)发生装置的配合,形成与锥台形靶材锥面相交的约束轴向磁场及传输空间聚焦导引轴向磁场兼容可调的多级轴向复合磁场结构。既可以改善弧斑放电,控制弧斑运动,减少颗粒发射,又可以改善传输空间的磁场分布,提高等离子体的传输效率和密度等镀膜关键参数的双重效果。 达到的指标:最终可提高公司市场占有率
企业信息
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负责人信息
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