电子级气体在半导体工业中的应用主要分为两种：第一种作为化学气
相沉积法制备CdS、Cr2S3、MnS等薄膜的重要前驱体。其次，残基硫在干 法刻蚀工艺中作为刻蚀剂的重要组成部分，是刻蚀无定型碳掩膜层不可或
缺成分。需要进行如下应用指标的验证
1. 作为无定形碳掩膜层形成的添加剂时，所形成的沟道深宽比。
2. 横截面表面形貌。
3 .孔洞规整性。
4. 刻蚀速率。
5. 最终产品良品率等指标。
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技术介绍
| 需求项目简述 |
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电子级气体在半导体工业中的应用主要分为两种：第一种作为化学气
相沉积法制备CdS、Cr2S3、MnS等薄膜的重要前驱体。其次，残基硫在干 法刻蚀工艺中作为刻蚀剂的重要组成部分，是刻蚀无定型碳掩膜层不可或
缺成分。需要进行如下应用指标的验证
1. 作为无定形碳掩膜层形成的添加剂时，所形成的沟道深宽比。
2. 横截面表面形貌。
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5. 最终产品良品率等指标。
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