1、 靶材均一性问题
高掺杂Sc的AlScN薄膜能显著提升机电耦合性能和压电系数，但因为 Sc在 A1中固溶度低,熔点差异大导致很难制备高Sc含量的A1 Sc合金靶.材, 实验室有将单独的A1靶材和Sc靶材切割成小片，交替排列在镀膜设备真 空腔体内，反应溅射得到高Sc含量的AlScN薄膜，此结构复杂，薄膜性能 难以保证，仅限于实验室研究而难以大规模商业应用。如何制备均匀的合
金锭是得到高性能靶材的前提。
2、 靶材微观结构控制
靶材内部的晶粒大小、晶向直接决定了溅射成膜的均匀性和溅射速度,
从而也显著影响后续产品的品质，因此，晶粒晶向的控制是溅射靶材生产
过程中的关键技术。
3、 精密机械加工
半导体行业使用的PVD设备对于靶材的尺寸要求也很高，尺寸的偏差
不仅会影响客户的经济性，还可能会影响到客户产品的质量。因此必须确
保靶材的尺寸和公差进行精确的控制，通常要求公差在10um以内，表面粗
糙度不高于0. 4umo
181 次浏览
分享到
需求详情
技术介绍
| 需求项目简述 |
|---|
|
1、 靶材均一性问题
高掺杂Sc的AlScN薄膜能显著提升机电耦合性能和压电系数，但因为 Sc在 A1中固溶度低,熔点差异大导致很难制备高Sc含量的A1 Sc合金靶.材, 实验室有将单独的A1靶材和Sc靶材切割成小片，交替排列在镀膜设备真 空腔体内，反应溅射得到高Sc含量的AlScN薄膜，此结构复杂，薄膜性能 难以保证，仅限于实验室研究而难以大规模商业应用。如何制备均匀的合
金锭是得到高性能靶材的前提。
2、 靶材微观结构控制
靶材内部的晶粒大小、晶向直接决定了溅射成膜的均匀性和溅射速度,
从而也显著影响后续产品的品质，因此，晶粒晶向的控制是溅射靶材生产
过程中的关键技术。
3、 精密机械加工
半导体行业使用的PVD设备对于靶材的尺寸要求也很高，尺寸的偏差
不仅会影响客户的经济性，还可能会影响到客户产品的质量。因此必须确
保靶材的尺寸和公差进行精确的控制，通常要求公差在10um以内，表面粗
糙度不高于0. 4umo
|
企业信息
| 企业名称 | 对接成功后可查看 | 企业类型 | 对接成功后可查看 |
|---|---|---|---|
| 所在地区 | 对接成功后可查看 | 详细地址 | 对接成功后可查看 |
负责人信息
姓名：对接成功后可查看
所在部门：对接成功后可查看
职务：对接成功后可查看
手机：对接成功后可查看
E-mail：对接成功后可查看
电话：对接成功后可查看
传真：对接成功后可查看
联系人信息
联系人：对接成功后可查看
所在部门：对接成功后可查看
职务：对接成功后可查看
手机：对接成功后可查看
E-mail：对接成功后可查看
电话：对接成功后可查看
传真：对接成功后可查看
电话：025-85485967 QQ客服：402523539